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專注於膠粘劑的研發制造
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低 VOCs含量膠粘劑 ，環保型水處理劑，新型高效 、環保催化劑和助劑，功能性膜材料，超淨高純試劑、光刻膠、電子氣體、新型顯示和先進封裝材料等電子化學品及關鍵原料的開發與生産(chǎn)。這意味著(zhe)“水基、熱熔、無溶劑、輻射固化、改性、生物降解等低VOCs含量的膠粘劑”将進一步迎來發展機遇。
光刻膠所在産(chǎn)業鏈覆蓋範圍十分廣泛 ，從上遊基礎化工材料行業、精細化學品行業到中遊光刻膠制備(bèi)，到下遊 PCB、面闆 、半導體産(chǎn)業 ，再到電子等應用終端。光刻膠作爲微電子領域微細圖形加工核心上遊材料，占據電子材料至高點。
光刻膠又稱光緻抗蝕劑 ，本質是一種感光材料，是電子領域微細圖形加工的關鍵性材料，在半導體 、LCD、PCB等行業的生産(chǎn)中具有重要作用 。近年來，随著(zhe)集成電路的快速發展，光刻膠行業景氣度不斷提高。
2021年2月，位於(yú)日本東北地區最南部的福島縣發生瞭(le)一場7.3級地震 。這場地震雖沒有像2011年那場9級地震一樣導緻核電廠洩漏，但卻造成瞭(le)設立在福島縣周邊半導體工廠的數日停産。汽車芯片大廠瑞薩電子的那坷工廠 、位於(yú)宮城縣的索尼半導體工廠 ，與福島鄰近的岩手、群馬等地，也彙集瞭(le)MLCC廠商TDK和太陽誘電，以及存儲器廠商铠俠...
光刻膠本質是一種感光材料，也稱光緻抗蝕劑，主要用於(yú)微電子技術中微細圖形加工。在紫外光、電子束、離子束、X射線等照射或輻射下，光刻膠溶解度會發生變(biàn)化，再經适當溶劑溶去可溶性部分，便可實現圖形從掩模版到待加工基片上的轉移。進一步，未溶解部分光刻膠作爲保護層，在刻蝕步驟中保護其下方材料不被刻蝕，從而完成電路制作。産品分類上，...
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