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光刻膠又稱光緻抗蝕劑，本質是一種感光材料，是電子領域微細圖形加工的關鍵性材料，在半導體 、LCD、PCB等行業的生産(chǎn)中具有重要作用。近年來，随著(zhe)集成電路的快速發展，光刻膠行業景氣度不斷提高。
2021年2月，位於(yú)日本東北地區最南部的福島縣發生瞭(le)一場7.3級地震。這場地震雖沒有像2011年那場9級地震一樣導緻核電廠洩漏，但卻造成瞭(le)設立在福島縣周邊半導體工廠的數日停産。汽車芯片大廠瑞薩電子的那坷工廠、位於(yú)宮城縣的索尼半導體工廠，與福島鄰近的岩手、群馬等地，也彙集瞭(le)MLCC廠商TDK和太陽誘電，以及存儲器廠商铠俠...
光刻膠本質是一種感光材料，也稱光緻抗蝕劑 ，主要用於(yú)微電子技術中微細圖形加工。在紫外光、電子束、離子束 、X射線等照射或輻射下，光刻膠溶解度會發生變(biàn)化，再經适當溶劑溶去可溶性部分，便可實現圖形從掩模版到待加工基片上的轉移。進一步，未溶解部分光刻膠作爲保護層，在刻蝕步驟中保護其下方材料不被刻蝕，從而完成電路制作。産品分類上，...
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